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水处理自动化

        高效沉淀池及加药间的自控系统主要实现工艺过程的监视和控制。系统可根据工艺要求,远程通过自动/手动方式完成工艺过程,并可可先系统的参数设置、设备控制、过程实时数据监视、历史数据查询等功能。
自控系统在现场设置有触摸式人机界面,操作人员可以在该界面上完成自控系统的所有监控操作。同时,自控系统预留以太网接口,可通过厂内工业以太网与全厂SCADA通讯,中心控制室操作员可以通过中心控制室上位机完成与现场人机界面相同的操作与监控。系统预留的PLC以太网接口可以连接业主的全厂自控系统,并传输数据。此接口将基于工业以太网协议。通讯电缆和连接到业主上位控制系统的安装工作由业主负责。
自控系统的设备安装与调试的同时,将配合全厂自控系统提供商,以完成对该系统的监控软件的编制和调试运行。
基于工艺设计方案,为满足工艺控制以及标书要求, 提供基于工业计算机及上位组态软件Intouch的操作方式和基于施耐德XBT触摸屏操作方式的两种上位操作模式以便用户使用,同时配置一套PLC控制站以实现对工艺(磁混凝澄清池及加药)的控制,PLC选用施耐德昆腾系列产品,可与原有系统PLC无缝连接。
 
严格参照以下标准实施工程:
《工业计算机监控系统抗干扰技术规范》(CECS81:96);
《信息技术 软件生存周期过程》(GB/T8566-2007);
《电力装置的电测量仪表装置设计规范》(GB/T50063-2008);
《外壳防护等级》(GB4208-2008);
《自动化仪表工程施工质量验收规范》(GB50131-2007);
《电气装置安装工程 盘、柜及二次回路接线施工及验收规范》(GB50171-2012);
《电气装置安装工程旋转电机施工及验收规范》(GB50170-2006);
《自动化仪表工程施工及验收规范》(GB50093-2002);
《工业控制计算机系统验收大纲》(JB/T 5234-1991)。
 
 
       自控系统按分散控制、集中显示的原则设置。设有1个控制台、1个现场PLC控制柜及现场控制按钮盒、仪器仪表等。控制台计算机系统位于控制室,可对整个工艺过程进行监控,也可以与上级系统和周边系统链接,现场站与中央控制室之间通过工业以太网进行数据通讯。现场PLC控制柜上布置有触摸屏,可与控制台一样监视或控制工艺过程。
       现场设备主要采用现场控制、中央控制的两层控制模式。控制方式包括:就地控制,远方控制 ,手动、自动模式 
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